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plasma等離子清洗機用什么氣體

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2025-03-05

plasma等離子清洗機可使用多種氣體來實現(xiàn)不同的清洗和處理效果，常用的氣體包括氧氣、氬氣、氮氣、氫氣、四氟化碳及氨氣等，還有多種氣體的混合氣體。氧氣主要用于去除有機污染物和增加表面親水性；氬氣常用于物理清洗和防止氧化；氮氣可避免金屬高溫氧化并能調節(jié)等離子體性質；氫氣用于還原金屬表面氧化物；四氟化碳用于刻蝕硅基材料；氨氣可改善表面粗糙度和增加含氮基團。混合氣體則可綜合多種氣體的優(yōu)勢，達到更好的處理效果。

plasma等離子清洗機常用的氣體有以下幾種：

氧氣（O?）：是一種具有強氧化性的反應性氣體。主要用于去除材料表面的有機污染物，如油脂、蠟質、碳氫化合物等。其原理是氧等離子體中的高活性氧離子能與有機污染物發(fā)生化學反應，將其氧化分解為二氧化碳和水蒸氣等小分子氣體，從而實現(xiàn)清潔。同時，氧氣還能增強材料表面的親水性，使材料表面形成更多的活性基團，提高涂層、粘接等后續(xù)工藝的附著力，適用于高分子材料的表面活化，但不適合易氧化的金屬表面。
氬氣（Ar）：屬于惰性氣體，是常用的非反應性氣體。主要通過物理轟擊作用清除表面顆粒物，氬氣電離產生的氬離子不會與基底材料發(fā)生化學反應，在表面清洗時不會造成精密電子器件表面氧化，因此特別適合用于敏感元件的清洗，如在半導體行業(yè)中，常被用來去除材料表面的微小塵埃，也可用于使基片表面粗糙化。

氮氣（N?）：具有良好的熱穩(wěn)定性和化學惰性，能有效避免某些金屬材料在高溫下發(fā)生氧化?？蓡为毷褂茫渤Ｅc其他活性氣體混合使用，以調節(jié)等離子體的性質，進而滿足不同的處理需求。例如在一些對金屬材料進行處理的場景中，使用氮氣等離子體可以改善金屬材料的硬度和耐磨性。

氫氣（H?）：是一種具有還原性的氣體，主要用于去除金屬表面的氧化物。通常與氬氣等其他氣體混合使用，以提高清洗效率和效果，降低使用純氫氣的風險。氫氣與被清洗件表面的金屬氧化物發(fā)生還原反應，生成水等產物，從而達到清潔金屬表面的目的。

四氟化碳（CF?）：是一種含氟氣體，屬于反應性氣體。主要用于刻蝕硅基材料，通過引入氟自由基，能夠在不損傷基底的情況下實現(xiàn)精密加工，在半導體制造等對材料刻蝕精度要求較高的領域應用廣泛。

氨氣（NH?）：用氨氣等離子處理，可以使其表面連接上氨基基團，能夠顯著改善表面粗糙度、提升潤濕性并增加材料表面含氮基團數(shù)量，但由于氨氣對大氣環(huán)境不友好，處理氨氣污氣給大規(guī)模工業(yè)化帶來了挑戰(zhàn)。

混合氣體：為了達到更好的清洗和處理效果，實際應用中常使用混合氣體，如氬氫混合氣體，先利用氬氣增強物體表面的結構活化，然后利用氫氣進行清洗，提升結合強度；還有氬氧混合氣體，氬離子進行物理轟擊，氧氣進行氧化反應，兩者結合可產生更多活性粒子，使清洗效果更佳。