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微波等離子清洗機(jī)原理

文章出處:等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間:2024-01-10
微波等離子清洗機(jī),設(shè)備結(jié)構(gòu)由五部分組成:外殼框架系統(tǒng)、微波放電系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)。其清洗過(guò)程是:在真空腔內(nèi)壓力到達(dá)一定范圍時(shí)充入工藝氣體,當(dāng)腔內(nèi)壓力為動(dòng)態(tài)平衡時(shí),利用微波源振蕩產(chǎn)生的高頻交變電磁場(chǎng)將氧、氬、氫等工藝氣體電離,生成等離子體,活性等離子體對(duì)被清洗物進(jìn)行物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用,使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì),經(jīng)過(guò)抽真空排出,而達(dá)到清洗目的。
微波等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖
微波等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖
微波等離子清洗機(jī)
納恩科技微波等離子清洗機(jī)

 
等離子體是物質(zhì)常見(jiàn)的固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)以外的第四態(tài),主要由電子、正離子、自由基、光子以及其他中性粒子組成,其正負(fù)電荷總是相等的,所以稱(chēng)為等離子體。由于等離子體中的電子、正離子和自由基等活性粒子的存在,很容易與固體表面發(fā)生物理或化學(xué)反應(yīng),生成產(chǎn)物為CO2和H2O等無(wú)污染的氣體,隨真空泵排出,從而達(dá)到清洗的目的。

微波等離子發(fā)生原理


微波等離子是由工作頻率為2.45GHz的微波激發(fā)工藝氣體放電,在正負(fù)極磁場(chǎng)作用下的諧振腔體內(nèi)產(chǎn)生等離子體,該諧振腔體位于反應(yīng)倉(cāng)體旁邊,磁控管連接微波發(fā)生器,因?yàn)檎麄€(gè)放電過(guò)程不需要正負(fù)電極,所以產(chǎn)生自偏壓極小,從根本上避免了靜電放電損傷。

微波等離子清洗機(jī)清洗原理


常用等離子體電源激發(fā)頻率有3種:激發(fā)頻率40kHz的等離子體為超聲等離子,發(fā)生反應(yīng)為物理反應(yīng);13.56MHz等離子體為射頻等離子體,發(fā)生反應(yīng)為物理和化學(xué)反應(yīng);頻率達(dá)到2.45GHz的等離子體為微波等離子體,離子濃度最高,發(fā)生反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng),典型的工藝是氧氣或氫氣等離子體工藝。用氧等離子通過(guò)化學(xué)反應(yīng),能夠使非揮發(fā)性有機(jī)物變成易揮發(fā)性的CO2和水蒸氣,去除沾污物,使表面清潔;用氫等離子可通過(guò)化學(xué)反應(yīng)去除金屬表面氧化層,清潔金屬表面。

氧氣等離子體其主要的形成過(guò)程如下:
微波等離子體
上述反應(yīng)式(1)表示氧氣在微波高能電場(chǎng)作用下,初步生成O2陽(yáng)離子和高速運(yùn)動(dòng)的自由電子;式(2)表示氧氣在激發(fā)態(tài)的自由電子的轟擊作用下變?yōu)榧ぐl(fā)態(tài),生成了自由電子的過(guò)程;式(3)表示激發(fā)態(tài)的氧氣分子在高速運(yùn)動(dòng)的自由電子作用下生成大量的氧自由基、氧正離子和激發(fā)態(tài)的自由電子。用氧氣等離子清洗,其中氧氣主要與污染物發(fā)生氧化反應(yīng),特別是對(duì)有機(jī)沾污物清洗效果尤為明顯,清洗過(guò)程反應(yīng)如下:
O2*+有機(jī)物→CO2+H2O
式(4)表明,處于激發(fā)態(tài)的氧氣分子與有機(jī)物發(fā)生反應(yīng),生成CO2和水蒸氣,對(duì)有機(jī)物溶劑沾污比較有效,具有清洗效率高、可選擇性好等優(yōu)點(diǎn)。但是其比較明顯的缺點(diǎn)是容易將待清洗物的金屬表面或粘接材料表面氧化,因此在實(shí)際生產(chǎn)工藝中,常用氫等離子體將待清洗物進(jìn)行還原清洗,去除金屬表面氧化層,清潔金屬表面。為了達(dá)到更好的效果,可在氫氣中加入一定量的惰性氣體氮?dú)?,將化學(xué)反應(yīng)和物理反應(yīng)相結(jié)合進(jìn)行清洗。其過(guò)程反應(yīng)如下:
H2*+氧化物→H2O+單質(zhì)或其他
式(5)表明,激發(fā)態(tài)的氫氣與氧化物發(fā)生化學(xué)反應(yīng),將氧化物還原為單質(zhì)和水蒸氣;氮?dú)獾入x子體經(jīng)過(guò)物理碰撞,與H2清洗起到協(xié)同的作用。通過(guò)兩種氣體的清洗能有效地將待清洗物表面的氧化物去除。

微波等離子清洗機(jī)清洗優(yōu)點(diǎn)


微波等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn)在于:
(1)無(wú)內(nèi)部電極,可避免放電污染,能量轉(zhuǎn)換效率高,可產(chǎn)生大范圍的高密度等離子體;
(2)無(wú)損傷工藝,自偏壓極小;
(3)高電子密度,制備各種功能薄膜材料的速率較快;(離子沖擊小,對(duì)器件的損傷?。?br /> (4)不產(chǎn)生紫外線輻射。

正是因?yàn)榫哂幸陨蟽?yōu)點(diǎn),微波等離子在一些工藝中具有不可替代性,例如一些電敏感器件制程中的去膠和清洗。由于激發(fā)頻率高,離子動(dòng)能小,化學(xué)等離子作用在微波等離子中占主要部分,可以實(shí)現(xiàn)更均勻有效地清洗,在清洗中沒(méi)有物理等離子體所產(chǎn)生的物理沖擊和濺射現(xiàn)象,在高可靠性要求的器件尤其是軍用器件生產(chǎn)工藝過(guò)程中,微波等離子清洗機(jī)成為關(guān)鍵首選的設(shè)備。

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